Centralina ELC032018-02-08T17:54:30+00:00

Centralina ELC03

Centralina di controllo dotata di sistema DPS e regolazione a potenziometri

La centralina ELC03 è dotata del sistema brevettato DPS (Deep Penetration System) che garantisce un’alta penetrazione nelle fessure ed angoli nascosti, con drastica riduzione della gabbia di Faraday.

Alta efficienza di trasferimento e distensione della polvere sul particolare da rivestire sono le caratteristiche vincenti di questo sistema.

La tensione di uscita autoregolandosi in funzione della distanza della pistola dal pezzo, assicura una perfetta penetrazione evitando l’effetto “buccia d’arancia”.

La regolazione dei parametri pneumatici (polvere, aria di polverizzazione e aria ausiliaria) avviene tramite i tre micro regolatori di pressione.

La regolazione dei parametri elettrici, avviene tramite i due potenziometri di regolazione Corrente uA e Tensione Kv separati. L’intuitiva serigrafia, agevola nella scelta tra 4 ricette, in base al tipo di manufatto da ricoprire, lasciando comunque all’operatore la possibilità di effettuare modifiche anche lievi in maniera molto veloce, in modo da ottenere il settaggio migliore per ogni tipo di finitura.

Tramite la manopola di regolazione della corrente (uA), l’operatore ha la possibilità di determinare la velocità di riduzione della tensione in base alla distanza dal pezzo in modo da avere contemporaneamente, alta potenza con grande resa a distanza da esso e bassa tensione e delicatezza di applicazione nelle immediate vicinanze del particolare.

APPARATO ELC03
Tipi di polvere STANDARD – METALLIC – FLUORESCENT
Tensione di alimentazione 115-230 Vac – 50-60 Hz
Potenza di ingresso 30 Watt
Pressione di ingresso Max 6 Bar
Consumo d’aria Max 300 lt/min
Uscite elettriche 12Vcc at 30mA – 1V at 6mA – 2V at 6mA – 24V at 20mA
Regolazione aria in uscita 0 – 4 bar
Peso – kg
Dimensioni (LxPxH) – mm
Centralina analogica di controllo
Centralina analogica di controllo particolare

Particolare dei potenziometri per le regolazioni dei parametri elettrici.